1. 設備功能:按制程要求在玻璃基板之感光膜上通過(guò)掩膜曝光產(chǎn)生感光圖案，為下一步圖案顯影作準備

2. 設備外形尺寸:（L)2000×（W)1765×(H)2200mm

3. 重量:1200Kg

4. 基板尺寸： 470X370mm(寬度方向為370mm)

5. 基板厚度: 0.4～1.1mm

6. 曝光精度: ±0.03mm

7. 寬線(xiàn)距范圍 :±10um

8. 平臺平面度: ±0.02mm

9. GAP重復精度: ±10μΜ

10. 曝光燈散布均勻性： >90%以上（測25點(diǎn)，計算公式：小值/[敏感詞]值）

11. 自動(dòng)MARK對位： 自動(dòng)對位

12. 曝光光強度： 35mw/cm2以上

13. 曝光燈類(lèi)型： 平行曝光燈

14. 生產(chǎn)效率： 20s/pcs(100mj)

15. 平臺材質(zhì)： 硬鋁合金，表面黑色硬質(zhì)氧化